探究新概念｜31 光刻胶是半导体工业的要害资料

时间: 2023-12-25 13:19:21 |   作者: 新闻中心

  光刻胶归于一种化工类产品，是用来制作半导体的原资料之一，它的出产的根本工艺杂乱，技术壁垒高，被誉为电子化学品工业“皇冠上的明珠”。现在全球高端半导体光刻胶商场主要被日本和美国公司独占，国产代替率较低。按使用范畴区分,可将光刻胶大致分为PCB光刻胶、显现面板光刻胶和集成电路光刻胶三大类。

  光刻工艺是半导体制作中最重要的工艺，而光刻胶是半导体工业的要害资料，本钱约为整个半导体制作工艺的三分之一。

  光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种感光资料，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光灵敏的混合液体。因为光刻胶归于耐蚀剂刻薄膜资料，经过不同光的照射下，如紫外光、电子束、离子束、X射线等，光刻胶的溶解度会发生改变。

  光刻胶是制作芯片的根本资料之一。在芯片制作的过程中，光刻胶直接影响芯片的功用和质量。假如光刻胶的质量欠好，制作出来的芯片功用会不稳定，乃至无法作业。

  在制作半导体芯片时，需要在硅片上构成各种不同的电路。经过光刻胶，将芯片上的图形转移到光刻胶上，使用光刻胶上的图形控制硅片的电路形状。然后，在硅片标明发生集成电路，完成电子设备的各种功用。

  能够将光刻机幻想成一个巨大的相机，硅片是“胶卷”，“镜头”是掩模板，“光线”是紫外光，它的“暗房”是化学处理室，然后将杂乱而精细的图画转移到硅片上，制作出微型电路。

  光刻胶能使用于半导体、液晶显现（LCD）以及印刷电路板（PCB）等范畴。从国内商场来看，PCB光刻胶占比最高，而半导体光刻胶占比最低。

  资料显现，光刻胶工业链可大致分为上游原资料，中游制作和下流使用三个环节。上游包含原树脂、单体、感光剂、溶剂等原资料，中游包含PCB 光刻胶、面板光刻胶与半导体光刻胶的制备，下流是各种光刻胶的使用。

  增感剂（光引发剂），是光刻胶的要害成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决议性效果。感光树脂：用于将光刻胶中不一样的资料聚合在一起，决议光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等特点。溶剂：是光刻胶中最大成分，意图是使光刻胶处于液态。但溶剂自身对光刻胶的化学性质简直无影响。其间溶剂质量占比最大，一般在80%以上。

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