时间: 2024-04-29 08:04:25 | 作者: 家居及玩具
JSR以缩短工艺时刻,资料零缺点为方针进步资料的功能,优化资料帮您处理现有处理废液吃力并且本钱昂扬的问题。
经过调理研磨颗粒、化学药剂、pH值、氧化剂用量等,咱们可任意调理各W bulk/W buff研磨液在各种膜上的抛光速率和挑选比,从而在短时刻内呼应客户的要求。
尖利粒径散布的高纯度胶体二氧化硅具有低划痕功能。此外,可以终究靠运用添加剂调整 ζ -电位来削减晶圆外表的缺点。
・咱们经过专业相关常识,可根据您的需求调整W,Oxide,SiN等异种资料的抛光速度和挑选比。
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JSR在全球各地区均设有化学机械研磨耗材开发基地和生产基地,以满意各地区客户的需求。
从传统一代到先进一代,JSR将许多类型的量产研磨液,供给给到很多客户,其间不乏半导体制造业的尖端制造商,一同咱们仍在不断的与客户们一同研制新式研磨液产品。
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咱们快速灵敏地为您的制程工艺构建供给优质的样品资料,为加快您的工艺构建做出奉献。
JSR自1979年4月开端出售光刻胶以来,以满意半导体职业的需求为主旨,40多年来不断的向全球客户供给光刻资料、CMP资料和封装资料。
JSR在致力于处理全球客户问题的一同,半导体资料的出售额也随之稳步增加。
咱们将持续以在日本开发的技能为根底,应对各种半导体工艺上的课题应战,为半导体商场的增加做出重大奉献。
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